金属钨的化学气相沉积是生产高质量半导体设备的一个关键工艺。在CVD过程中，氢的减少使钨沉积下来。FLUENT系列产品在模拟过程中将精确的输运特性和化学动力学模型耦合在一起，为优化硬件设备提供了一个快速解决的办法。下图是WF6分布图。